制备好的金相试样放置时间长久会在试样表面形成氧化物、腐蚀产物及麻点,从而失去金相组织的真实形貌,影响金相组织的鉴别。经反复试验得到一种试剂,可代替繁琐的抛光、侵蚀等工序,节省了人力物力和时间,尤其对一些比较软的难制备的金相试样,如铜、铝、锡等更有意义。试剂配方;酒精(60ml),四氯化碳(20ml),盐酸(4~6ml)。试剂适用范围:适用铁、钢和锡试样。若在该试剂略滴几滴硫酸,适用铜及铜合金试样,
制备好的金相试样放置时间长久会在试样表面形成氧化物、腐蚀产物及麻点,从而失去金相组织的真实形貌,影响金相组织的鉴别。经反复试验得到一种试剂,可代替繁琐的抛光、侵蚀等工序,节省了人力物力和时间,尤其对一些比较软的难制备的金相试样,如铜、铝、锡等更有意义。试剂配方;酒精(60ml),四氯化碳(20ml),盐酸(4~6ml)。试剂适用范围:适用铁、钢和锡试样。若在该试剂略滴几滴硫酸,适用铜及铜合金试样,
目前常用的抛光方法有以下几种:1.1 机械抛光机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法,一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等,以手工操作为主,特殊零件如回转体表面,可使用转台等辅助工具,表面质量 要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具,在含有磨料的研抛液中,紧压在工件被加工表面上,作高速旋转运动。利用该技术可以达到 Ra0.008 μ m 的表面粗
有关抛光粉改进使用介绍机械抛光的磨料通常为抛光粉和抛光膏、常用的施光粉为Al2O3、Cr2O3 ,它价格便宜,适用性强。抛光膏一般是人造金刚石为好,抛光效果理想,但价格贵,不适合大专院校的学生实验用。我校长期使用的是Al2O3抛光粉,由于学生经验不足,制成悬浮液的稠稀适度和在抛光时倒入量掌握不好,加之悬浮液易使粒度不均,抛光效果也不理想,且浪费大。为了改变抛光粉的使用状况,我们进行了一些探讨。金刚
通过正确的调焦方法将显微镜调到高倍,高倍图像清晰后,逐渐调到低倍,这时如果成像模糊,作以下调节:1、双目显微镜可调节可调目镜筒微调机构。2、三目显微镜通过调节摄像目镜即可达到齐焦。3、单筒显微镜调节摄像目镜筒。
光切法是利用光切原理来测量表面粗糙度的方法, 它将一束平行光带以一定角度投射与被测表面上,光带与表面轮廓相交的曲线影像即反映了被测表面的微观几何形状, 解决了工件表面微小峰谷深度的测量问题, 避免了与被测表面的接触。由于它采用了光切原理, 所以可测表面的轮廓峰谷的最大和最小高度,要受物镜的景深和鉴别率的限制。峰谷高度超出一定的范围, 就不能在目镜视场中成清晰的真实图像而导致无法测量或者测量误差很大
制备好的金相试样放置时间长久会在试样表面形成氧化物、腐蚀产物及麻点,从而失去金相组织的真实形貌,影响金相组织的鉴别。经反复试验得到一种试剂,可代替繁琐的抛光、侵蚀等工序,节省了人力物力和时间,尤其对一些比较软的难制备的金相试样,如铜、铝、锡等更有意义。 试剂配方;酒精(60ml),四氯化碳(20ml),盐酸(4~6ml)。 试剂适用范围:适用铁、钢和锡试样。若在该试剂略滴几滴硫酸,适用铜及铜合金试
1.倒置显微镜中最常用的观察方法就是相差。由于这种方法不要求染色,是观察活细胞和微生物的理想方法。在此提供各种聚光器来满足需要,这种方法提供带有自然背景色的、高对比度的、高清晰度的图像。2.开机。接连电源。打开镜体下端的电控开关。3.使用(1)准备:将待观察对象置于载物台上。旋转三孔转换器,选择较小的物镜。观察,并调节铰链式双目目镜,舒适为宜。(2)调节光源:推拉调节镜体下端的亮度调节器至适宜。通
游标卡尺与千分尺的使用方法 发布时间:2009-11-23 9:17:03 来源:玲也 点击数:632 一、 游标卡尺 (1)游标卡尺的用途和构造: 卡尺结构如图1—1所示主要由两部分组成,即可移动的光标部分A和主尺部分B组成。从背面看,光标是一个整体,光标与尺身之间有一弹簧片(图中未能画出),利用弹簧片的弹力使光标与尺身靠紧
双目金相显微镜:本仪器是用户鉴别和分析各种金属和合金的组织结构。可广泛用于在工厂或实验室进行铸件质量的鉴定,原材料的检验或对材料处理后金相组织的研究分析等工作。本仪器系倒置式金相显微镜,有调节粗动升降紧松及粗微调具有限位调节装置。可以利用工作台面共焦面对有深凹面的表面进行观察,在工作台上安装夹具作转动样品表面(多面)观察,成像清晰,照明均匀,视场平坦。本仪器特别为科研单位大专院校学生使用设计具有调
在实际金相分析研究中,适当注意材料显微组织的如下特点是很有好处的,尤其有助于实验方案设计的系统性和严谨性,以及减少对表观显微组织形态的误解和不合理分析的可能性。(1)材料显微组织结构的方向性:包括晶粒形态各向异性,低倍组织的方向性,晶体学择尤取向,材料宏观性能的方向性等多种方向性,应予以分别分析和表征;(2)材料显微组织结构的多尺度性:原子与分子层次,位错等晶体缺陷层次,晶粒显微组织层次,细观组织